[고뉴스TV]한미 특허심사하이웨이, 시범 실시

2008-01-11 アップロード · 120 視聴

앞으로 미국에서 특허출원을 하기가 훨씬 더 수월해질 전망입니다.

특허청은 11일 한국과 미국 양국에 공통으로 신청된 특허출원에 대해 한쪽 국가에서 특허가 가능하다는 심사결과를 받게 되면 상대 국가에서는 해당 특허출원을 다른 출원보다 먼저 심사하는 내용의 한미 특허심사하이웨이를 오는 28일부터 시범 실시한다고 밝혔습니다.

미국에서 일반출원의 경우 평균 25개월 만에 심사를 받을 수 있는 데 비해, 특허심사하이웨이가 적용되면 빠르면 3개월에서 12개월 이내에 심사를 받을 수 있게 됩니다.

특허청은 우리 국민이 우리나라 다음으로 특허를 많이 출원하는 미국에서 특허기술을 일찍 사업화할 수 있게 되고, 특허분쟁에 효과적으로 대응할 수 있을 것으로 기대된다고 분석했습니다.

특허심사하이웨이는 오는 28일부터 1년간 시범실시 후 전면 시행할 지 양국 특허청이 결정하게 됩니다.

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